系統(tǒng)概述

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級(jí)表面處理。

系統(tǒng)原理

通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。

系統(tǒng)配置

*自動(dòng)化控制器: e-Control PLC，是控制系統(tǒng)的核心硬件平臺(tái)。

*人機(jī)界面硬件: TPC1503工業(yè)級(jí)15寸觸摸式平板電腦，穩(wěn)定可靠。

*人機(jī)界面軟件: NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺(tái)，提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。

系統(tǒng)評(píng)價(jià):

*提供多達(dá)99層一次成膜支援；

*自動(dòng)倒幕翻轉(zhuǎn)，可實(shí)現(xiàn)雙面鍍膜；

*支持Excle導(dǎo)入靶材、設(shè)備參數(shù)、工藝參數(shù)等；

*支持電子槍像素點(diǎn)數(shù)量自定義控制，實(shí)現(xiàn)靶材的無縫隙加熱控制；

*針對不同加熱段，采用不同蒸鍍模式，保證熔料均溫的同時(shí)，保證熔料效率；

*一鍵式啟動(dòng)，從啟動(dòng)到生產(chǎn)結(jié)束只需輕點(diǎn)一下鼠標(biāo)，各種生產(chǎn)流程自動(dòng)完成；

*批號(hào)式數(shù)據(jù)管理方案，實(shí)時(shí)自動(dòng)保存生產(chǎn)信息，對生產(chǎn)數(shù)據(jù)有據(jù)可查；

*網(wǎng)絡(luò)化方案，提供遠(yuǎn)程組網(wǎng)端口，輕松實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程多系統(tǒng)集中控制和管理；