隨著基因測(cè)序技術(shù)的快速發(fā)展和應(yīng)用普及，醫(yī)藥企業(yè)在流動(dòng)槽（Flow Cell） 和微流控芯片等核心部件的工藝質(zhì)量控制正面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。這些部件的尺寸精度直接關(guān)系到測(cè)序數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性與可靠性。

當(dāng)前面臨的核心質(zhì)量瓶頸包括：微流道寬度與深度精度不足可能導(dǎo)致流體控制失效，影響測(cè)序反應(yīng)的一致性；納米孔尺寸均勻性偏差會(huì)直接影響DNA片段通過的效率，導(dǎo)致信號(hào)讀取錯(cuò)誤；光學(xué)檢測(cè)窗口平整度誤差則會(huì)引起光路偏移，降低熒光信號(hào)采集的準(zhǔn)確性。傳統(tǒng)檢測(cè)方法在應(yīng)對(duì)這些微米級(jí)尺寸測(cè)量時(shí)，存在效率低下、精度不足且無法實(shí)現(xiàn)全面質(zhì)量監(jiān)控的問題。

QM系列閃測(cè)儀的解決方案

QM系列閃測(cè)儀基于一鍵式快速成像測(cè)量技術(shù)，能夠高效解決上述基因測(cè)序儀核心部件的檢測(cè)難題，其在各工序的具體應(yīng)用包括：

1. 微流道尺寸精準(zhǔn)測(cè)量

QM系列閃測(cè)儀采用高分辨率雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，配合多角度光源組合，清晰捕捉微流道的完整輪廓。通過AI自動(dòng)尋邊技術(shù)精準(zhǔn)識(shí)別流道邊緣，自動(dòng)計(jì)算寬度、深度等關(guān)鍵參數(shù)，測(cè)量精度高達(dá)±1μm。相比傳統(tǒng)輪廓儀的逐點(diǎn)掃描方式，檢測(cè)時(shí)間從15分鐘以上縮短至30秒以內(nèi)，效率提升30倍以上。

對(duì)于微流道的三維輪廓評(píng)估，設(shè)備通過搭載3D線激光輪廓測(cè)量?jī)x還原細(xì)微幾何特征，結(jié)合專業(yè)分析軟件QMVS實(shí)現(xiàn)流道深度和側(cè)壁角度的快速精確評(píng)估。這種非接觸式測(cè)量方式避免了傳統(tǒng)接觸式測(cè)量可能對(duì)精密流道造成的損傷。

2. 納米孔陣列快速檢測(cè)

對(duì)于納米孔陣列的尺寸測(cè)量，QM系列閃測(cè)儀通過大視野成像和高精度測(cè)量技術(shù)，一次性獲取多個(gè)納米孔的二維輪廓數(shù)據(jù)。系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別孔邊緣，計(jì)算孔徑、孔位等關(guān)鍵尺寸，全面反映產(chǎn)品質(zhì)量狀況。

針對(duì)納米孔的定位精度檢測(cè)，設(shè)備配備的0.5μm重復(fù)精度系統(tǒng)能夠精確評(píng)估每個(gè)納米孔的位置度。相比傳統(tǒng)測(cè)量方式，QM系列的檢測(cè)效率提升20倍以上，且能實(shí)現(xiàn)全檢。

3. 光學(xué)窗口平整度精確測(cè)量

QM系列閃測(cè)儀能夠一次性拍攝光學(xué)窗口圖像，通過自動(dòng)識(shí)別窗口表面輪廓。系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算各項(xiàng)關(guān)鍵參數(shù)，并與CAD模型進(jìn)行比對(duì)，快速輸出偏差報(bào)告。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)與價(jià)值分析

1. 檢測(cè)效率提升

QM系列閃測(cè)儀的"一鍵式測(cè)量"方式將傳統(tǒng)需要數(shù)十分鐘的檢測(cè)項(xiàng)目縮短至數(shù)十秒內(nèi)完成。在實(shí)際應(yīng)用中，該設(shè)備將流動(dòng)槽的檢測(cè)流程從傳統(tǒng)的20分鐘/件縮短至45秒/件，效率提升26倍，使對(duì)生產(chǎn)線上每一件產(chǎn)品進(jìn)行全尺寸檢驗(yàn)成為可能，改變目前抽樣檢驗(yàn)的質(zhì)量風(fēng)險(xiǎn)。

2. 測(cè)量精度與一致性保障

設(shè)備配備的雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)有效消除透視誤差，多元光源組合克服了透明材質(zhì)反光、邊緣不清等成像難題。結(jié)合AI自動(dòng)尋邊技術(shù)，排除人為判斷的主觀誤差，確保測(cè)量結(jié)果的客觀性、一致性和可靠性，測(cè)量精度達(dá)到±1μm，重復(fù)精度達(dá)0.5μm。

3. 全面質(zhì)量數(shù)據(jù)追溯

QM系列閃測(cè)儀配備的專業(yè)測(cè)量軟件QMVS可自動(dòng)生成完整的檢測(cè)報(bào)告和統(tǒng)計(jì)分析圖表，為工藝改進(jìn)提供數(shù)據(jù)支持。通過全檢獲得的海量數(shù)據(jù)，我們可以建立完善的質(zhì)量追溯體系，實(shí)現(xiàn)SPC統(tǒng)計(jì)過程控制，及時(shí)發(fā)現(xiàn)工藝偏差，實(shí)現(xiàn)預(yù)防性質(zhì)量控制。

4. 操作簡(jiǎn)化與成本優(yōu)化

閃測(cè)儀的"一鍵式操作"設(shè)計(jì)大大降低了對(duì)操作人員的技術(shù)門檻要求。普通員工經(jīng)過簡(jiǎn)單培訓(xùn)即可上崗，減少了培訓(xùn)成本，也避免了因人員流動(dòng)導(dǎo)致的檢測(cè)質(zhì)量波動(dòng)。

QM系列閃測(cè)儀的引入將改變現(xiàn)有基因測(cè)序儀核心部件的質(zhì)量管控模式，從源頭上提升產(chǎn)品的精確性與可靠性。不僅能解決當(dāng)前面臨的檢測(cè)效率低下、人為誤差不可避免和無法實(shí)現(xiàn)全檢等瓶頸問題，更將通過數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)的質(zhì)量管理模式，推動(dòng)制造工藝的持續(xù)改進(jìn)與創(chuàng)新。